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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GMD2000樹脂乳化納米級研磨設備

    樹脂乳化納米級研磨設備專攻樹脂物料的高效乳化設備,依托高剪切技術與三級分散頭設計,可將物料細化至 50-350nm,粒徑分布窄且穩(wěn)定性強。設備結(jié)構(gòu)緊湊、操作便捷,符合清潔標準,支持連續(xù)作業(yè)與工藝放大,適用于涂料、膠粘劑、化工等領域的研發(fā)與量產(chǎn)。

    更新時間

    2025-11-06

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

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    406

  • GMD2000納米氧化鋅剪切研磨機

    納米氧化鋅剪切研磨機是專用于氧化鋅物料納米級加工的設備,通過高速剪切、研磨與分散作用,將氧化鋅顆粒細化至納米尺度,同時保證顆粒均勻性。它廣泛應用于橡膠、涂料、化妝品等領域,能提升產(chǎn)品性能。設備具備細化效率高、粒徑可控、運行穩(wěn)定的特點,適配工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)需求。

    更新時間

    2025-11-05

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

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    474

  • GMD2000研磨乳化機

    研磨乳化機是兼具研磨細化與乳化分散功能的專用設備,通過高速定轉(zhuǎn)子剪切、研磨珠碰撞,同時實現(xiàn)物料顆粒細化與相際混合。?它能破除團聚、細化粒徑至微米級,讓油水等不相容物料形成穩(wěn)定乳化體系,適配涂料、化妝品、食品等領域,設備易清潔、參數(shù)可調(diào),滿足多類產(chǎn)品生產(chǎn)需求。

    更新時間

    2025-10-29

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

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  • GMD2000氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機

    氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機通過高剪切膠體磨與分散機協(xié)同工作:膠體磨利用定轉(zhuǎn)子高速相對運動(轉(zhuǎn)速可達數(shù)千轉(zhuǎn)/分鐘),產(chǎn)生強烈剪切、沖擊和研磨力,將漿料中團聚顆粒破碎細化;隨后分散機進一步打散微小顆粒,實現(xiàn)均勻分散,最終獲得粒徑達標、穩(wěn)定性好的陶瓷隔膜漿料。

    更新時間

    2025-10-17

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

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  • GMD2000濕法研磨機

    濕法研磨機是物料濕法超細粉碎核心設備,適配涂料、新能源等領域。通過研磨介質(zhì)(如鋯珠)與高速運動部件的沖擊、剪切,將漿料中顆粒細化至微米/納米級。具備溫控、變頻調(diào)速功能,研磨效率高且粒徑分布均勻,可連續(xù)或批次作業(yè),滿足工業(yè)化生產(chǎn)對物料細度的嚴苛要求。

    更新時間

    2025-10-16

    廠商性質(zhì)

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    497

  • GMSD2000石墨烯剝離研磨分散機

    石墨烯剝離研磨分散機是用于制備高質(zhì)量石墨烯的關鍵設備,主要通過機械剪切、空化等作用剝離石墨片層并分散石墨烯。 其工作原理是利用高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子與定子產(chǎn)生強剪切力,使石墨混合物在定轉(zhuǎn)子間隙中不斷受到撞擊、破碎、研磨和分散。同時,部分設備還結(jié)合液力旋渦空化技術,通過空泡的崩潰產(chǎn)生高溫高壓和微射流,進一步剝離石墨片層,得到單層或多層石墨烯。

    更新時間

    2025-10-14

    廠商性質(zhì)

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    657

  • GMSD2000納米研磨機

    納米研磨機是新材料制備核心設備,通過研磨腔體內(nèi)高速運動的研磨介質(zhì)(如氧化鋯珠),對物料產(chǎn)生撞擊、剪切與研磨作用,將物料細化至納米級??删珳士刂屏?,獲窄分布體系,適配高粘度物料,且具備溫控、防污染設計。廣泛用于涂料、醫(yī)藥、新能源等領域,助力提升產(chǎn)品性能。

    更新時間

    2025-10-14

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

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    576

  • GMSD2000彩色防偽變色油墨研磨分散設備

    彩色防偽變色油墨研磨分散設備該設備為防偽變色油墨制備核心設備,以高剪切力破除變色劑、顏填料等團聚體,實現(xiàn)納米級均勻分散??删珳士刂屏脚c分布,確保樹脂充分包裹顆粒,提升油墨色變穩(wěn)定性、顯色清晰度與印刷適配性,適配防偽標簽、證書等領域生產(chǎn)需求。

    更新時間

    2025-10-13

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

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    468

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