硫酸鋇研磨高速分散機

研磨分散機是將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備，效果遠遠好于單臺膠體磨處理的效果，研磨分散機是一臺目前創(chuàng)新型的研磨分散設(shè)備。

對于硫酸鋇溶液的生產(chǎn)，目前許多廠家采用國產(chǎn)膠體磨生產(chǎn)，由于國產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn)，生產(chǎn)出來的硫酸鋇溶液粒徑一般在20μm左右，而且生產(chǎn)效果很低，需要研磨5-6小時。而使用SID研磨分散機進行處理，研磨兩遍，粒徑可以細化到5μm，效果好，效率高。

硫酸鋇GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

硫酸鋇研磨分散機的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

硫酸鋇研磨高速分散機設(shè)備選型表：